商业 消息人士称,中国开始生产国产浸润式DUV芯片制造工具 2026年7月29日 阅读时间:5分钟 下载PDF 在路透社于2024年4月19日获取的这张新闻资料照片中,工作人员站在美国俄勒冈州希尔斯伯勒的英特尔工厂内,展示“高数值孔径极紫外”(High NA EUV)光刻系统。 据一位知情人士透露,中国已开始量产自主研发的浸润式深紫外(DUV)光刻机。作为先进芯片制造的核心技术,此举标志着北京在削弱对外国技术依赖的战略中迈出了关键一步。